氮化炉厂家：等离子氮化炉设备的工艺原理。

　　普通的等离子渗氮工艺需要3~10mbar的气体压力才能保证等离子与基体完全接触，对于表面有小凹槽或螺纹等复杂形状的基片，复杂形状附近的等离子渗氮设备参数分布会有一定程度的不同，引起周围电场的变化，从而改变该区域的离子浓度和离子轰击能量，如果采用常规的等离子渗氮，离子碰撞更容易发生在等离子鞘层，导致离子能量降低，更难活化更多的氧化物金属表面，如不锈钢，这种复杂形状的基底条件也会导致该区域温度过热，并且渗氮特性不同于其它基底条件，但是，由于常规等离子氮化炉工艺产生的异常辉光放电，放电参数之间是相互联系、相互耦合的，不可能单独通过改变某一放电参数来控制渗氮过程。

　　为了解决这一问题，研究人员开发了低压等离子体，当气压低于10PA时，不会产生异常辉光放电，在射频的作用下，热丝会产生一系列低压等离子体，充满整个加工空间，含有大量活性原子，从而提高渗氮效率，在射频等离子体设备的氮化过程中，等离子体的产生与衬底偏压的控制是分开的，因此可以分别控制离子能量和衬底表面流量，由于较低的工作气压，气体消耗相应减少。

　　低能DC辉光放电用于产生氮化用的NH自由基，这些高活性自由基用于氮化，整个过程需要外接电源加热工件，过程类似气体渗氮，该工艺不仅可以控制表面拓扑结构，还可以选择是否形成复合层，在不改变表面结构特征的情况下，控制复合层的厚度和扩散层的深度，如果金属表面有狭窄的缝隙和孔洞，通过这种工艺可以很容易地实现渗氮。

　　传统的离子渗氮工艺采用DC或脉冲异常辉光放电，该技术对低合金钢和工具钢渗氮有效，但对不锈钢尤其是奥氏体不锈钢无效，渗氮工艺在高温下会析出CrN，所以金属表面非常坚硬耐磨，但缺点是容易腐蚀，该工艺制备的改性层中含有一层被称为膨胀奥氏体的富氮层，通过低温低压放电技术成功解决了这一问题。

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